处理能力 | 300 |
配用功率 | 4 |
粉碎程度 | 超微粉碎 |
原理 | 高速万能粉碎机 |
适用物料 | 通用 |
应用领域 | 化工 |
铝镁混悬液胶体磨,铝镁加混悬液胶体磨,胃药混悬液胶体磨,片剂分散液胶体磨,氢氧化铝真空胶体磨,氢氧化镁胶体磨,CMC均质胶体磨,悬浮性好的医用胶体磨细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
一/铝镁混悬液介绍
胃酸可以帮助消化,但如果胃酸过多反而会伤及胃、十二指肠,甚至将粘膜、肌肉“烧破”,造成胃溃疡或十二指肠溃疡等疾病。
已知抗酸药不会与其它药物发生相互作用或阻止其它药物的吸收,但是一般的原则是当使用抗酸药与其它药物一起合用时,zui好间隔1小时以上。当偶尔使用一次抗酸药时,往往非常少见严重的不良反应。氢氧化铝及氢氧化镁均属于碱,二者在一起不会产生相互作用,已知本品对食物、酒精以及其它抗酸药没有相互作用。在中和胃酸时,氢氧化铝及氢氧化镁可以同时发挥碱性作用。
由于氢氧化铝具有致便秘的作用,而氢氧化镁又有致泻的作用,所以,临床上经常将二者联合应用,以减少药物的不良反应。
以氢氧化铝与氢氧化镁为活性成分的混悬液剂型,可以使药物能够在患者的胃部发挥中和过多胃酸的作用。
铝镁混悬液,原料包括:
氢氧化铝、氢氧化镁、混合助悬剂和消泡剂;
所述混合助悬剂为羟丙甲纤维素、微晶纤维素、羧甲基纤维素钠和卡拉胶
通过ikn胶体磨简化工艺使生产工艺易于操作制得的氢氧化铝氢氧化镁混悬液均一性良好,悬浮性好,粘度较小,口感细腻无颗粒感
二/ikn铝镁混悬液胶体磨介绍
铝镁混悬液胶体磨是流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间,使物料受到强大的剪切力,磨擦力及高频振动等作用,有效地被粉碎、乳化、均质、混合,从而获得满意的经细加工的产品。
设备结构:两级组成
第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽,定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离,在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时,可以顺畅进入研磨分散机腔体,通过高速旋转的经细度递升磨头,zui终得到微纳米级的物料颗粒。
第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗经度、中等经度、细经度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很zhong要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很zhong要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
从设备角度分析,影响研磨效果的因素:
1 磨头的形式(卧式和立式)
2 磨头的剪切速率
3 磨头的齿形结构(见磨头结构)
4 物料在磨头墙体的停留时间,乳化分散时间
5 循环次数
CMSD 2000系列铝镁混悬液胶体磨设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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