型号 | CMD |
搅拌机类型 | 强力搅拌机 |
物料类型 | 固-液 |
适用物料 | 药品 |
动力类型 | 电动 |
布局形式 | 立式 |
搅拌方式 | 强制式搅拌 |
每次处理量范围 | 出料50-250L |
应用领域 | 医药 |
作业方式 | 循环作业式 |
搅拌鼓形状 | 圆盘型 |
装置方式 | 移动式 |
电机功率 | 4 |
生产能力 | 700 |
转速范围 | 0-14000 |
软膏剂药物基质高速均质混合机,软膏剂眼膏剂真空均质机,管线式无菌膏剂胶体磨,立式高速胶磨均质机实用新型多功能均质机,ikn高速纳米均质机,小型中试医用膏剂均质机
软膏剂系指药物与适宜基质均匀混合制成的具有适当稠度的半固体外用制剂。
软膏剂分类:
v1.按药物在基质中分散状态不同,软膏剂的类型可分为三类: v①溶液型软膏剂;②混悬型软膏剂;③乳剂型软膏剂。
v2.按基质的性质和特殊用途,软膏剂的类型分为: v①油膏剂;②乳膏剂; ③凝胶剂;④糊剂; ⑤眼膏剂。
v3.按软膏中药物作用的深度和广度,软膏剂的类型分为: v①仅作用于皮肤表面的软膏剂 v②透过表皮,在皮肤内部发挥作用的软膏剂 v③透过皮肤,吸收后入体循环发挥全身治疗作用的软膏剂 v
IKN软膏剂药物基质高速均质混合机适合用于各类容器,可以在各不同容器上进行独立的完成,也能够配用移动式或者固定式的支架上进行非常好的混和、分散、超细化研磨、均质、反应等工艺过程,物料在处理的间歇,能够做非常彻底的清洗工作。研磨分散机的基料的分散还有研磨能够在一个容器里面,使用一台机器进行完成;分散机不需额外的泵、管道、阀门还有容器等;分散机非常的封边清洗、而且物料的残留也非常的少,十分的方便更换产品;分散机的研磨的介质的添加的量非常的小;研磨分散机拥有双壁的研磨篮、双壁的拉缸,还能够对物料进行冷却或者是加热。
IKN研磨输送型高速均质机是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在分散头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种分散头供客户选择)。
在制药,食品和精细化工行业中实现均匀的粒度分布和解聚集分散,帮助能够减少或规避资本支出,同时提供改进的成品。IKN研磨分散机采用了二级处理结构,第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块,第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,(2P剪切力zui弱,为粗齿,8SF剪切力zui强,为超细齿)且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进,可提供可靠的可扩展性,可重复性和性能。我们zui新的设计融合了许多创新,提供更多应用多功能性,更易于清洁和维护。
砂磨机:锆珠易损,引入杂质,更换维修成本高;
国内胶体磨/研磨机/分散机:转速普遍2930rpm,不超过3000rpm,作用力弱,粉碎研磨细度不够,浆料稳定性差;
德国IKN研磨分散机(改进型胶体磨/改进型分散机):转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm,剪切力,研磨力,分散力更强,粒径更小,分布范围更窄,浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的,一致的和可重复的粒度分布。
研磨均质机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
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