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高分散要求导电剂分散机  招商

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产品说明
型号 CMSD
搅拌机类型 多功能搅拌机
物料类型 固-液
适用物料 其他
动力类型 电动
布局形式 立式
搅拌方式 强制式搅拌
每次处理量范围 出料50-250L
应用领域 能源
作业方式 循环作业式
搅拌鼓形状 圆盘型
装置方式 移动式
电机功率 4
生产能力 300
转速范围 0-14000

高分散要求导电剂分散机,中高端导电剂分散机,剪切分散法导电剂分散机,锂电池导电剂分散机,超细颗粒导电剂14000转分散机型号从小到大都是线性放大,小型号小试中试设备和大型号工业化设备效果一样。小型号摸索参数可以直接放大到工业生产,可将风险降到zui低。采用德国博格曼双端面机械密封,并配有压力平衡罐冷却系统,可24小时连续生产。


导电剂作为锂离子电池的重要组成部分,很大程度地影响着锂离子电池的性能。导电剂在电池正极的作用主要是提高正极的导电性。目前国内很多锂电商都是比较注重传统的制作工艺,很大一部分锂电厂对于一些比较中高端的导电剂的使用效果不是特别理想,比如科琴黑,碳纤维,碳纳米管目前在国内的使用都不是特别普遍,一个是价格问题,一个是用量问题,还有制作工艺问题,主要的难点还是在于分散。基本上导电性能特别好的导电剂都是颗粒特别细小、比表面积特别大、吸油值比较大,但是对于分散的要求都比较高。如果分散这一面做得不好,导电性能再强的导电剂也在锂电池的应用中也不会体现出特别优良的效果。



导电浆料一般的分散式传统电池浆料的生产设备是间歇式的行星搅拌器混合装置,具有其相对的缺陷性,表现在:

1. 批次分散工艺,混合分散时间长,能量消耗大。

2. 混合效率低,剪切力弱,能量输入不均匀,所得浆料粒径分布宽,产品质量不稳定。


3 电极粉末材料由行星搅拌器顶部加入,粉尘容易飞扬,漂浮。更zhong要的是粉末与液相混合ji易发生团聚。

4. 物料易残留于行星搅拌器的罐盖,罐壁及搅拌桨上,清洗操作困难。

5. 空气易存留于分散混合罐,气泡的产生影响分散效果。

6. 批次工艺致使量产受到先制,生产线占地面的大,维护成本高。

 

上海依肯的IKN高剪切研磨分散机与间歇式的行星搅拌器混合装置相比,在电极粉末材料(固相)与溶剂(液相)的混合、电池浆料的均匀分散上具有相对的优势,表现在:

1. 电极粉末材料(固相)与溶剂(液相)能实现在线湿化,ji少发生团聚现象,粉液混合效率ji高。

2. 连续式分散工艺,混合分散效率高,时间短,能量消耗小。

3. 全密闭式分散腔,避免空气引入影响分散效果,设备能实现在线清洗,清洗操作方便gao效。

4. 全密闭式分散系统能耐压工作,连续式工艺能实现量产,设备占地面积小,维护成本低。

5. 经细分散能量输入可控,所得浆料粒径分布窄,产品质量更稳定。

IKN研磨分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散,先将锂电池浆料的团聚体先打开,然后再进行分散。IKN研磨分散机在国nei多家大型锂电池厂家都有着突出的应用。


从设备角度分析,影响分散结果的因素有以下几点:

1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 分散头的剪切速率  (越大,效果越好)

3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散腔体的停留时间,分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)



高分散要求导电剂分散机 管线式高剪切工作过程

1、 在高速旋转的转子产生的离心力作用下,图中的物料从工作头的上进料区域同时从轴向吸入工作腔。2、强劲的离心力将物料从径向甩入定、转子之间狭窄精密的间隙中。同时受到离心挤压、撞击等作用力,使物料初步分散乳化。
3、在高速旋转的转子外端产生至少15m/s以上的线速度,最高可至40m/s,并形成强烈的机械及液力剪切、液层摩擦、撞击撕裂,使物料充分的分散、乳化、均质、破碎、同时通过从径向喷射出来。经过一次处理或循环处理后最终完成分散、乳化、均质过程。



4  或者在在第二组转子离心力的作用下,进入第二个 定、转子工作区;再一次经过定、转子多层、密集、均匀剪切作用后,从径向喷射出来,在第三组转子离心力的作用下, 进入第三组定、转子工作区,完成分散、乳化、均质等工艺过程。经过三组定、转子依次处理后,使物料在*时间内得到均匀的处理,最终完成分散、乳化、均质过程。


高分散要求导电剂分散机,中高端导电剂分散机,剪切分散法导电剂分散机,锂电池导电剂分散机,超细颗粒导电剂14000转分散机

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm


线速度

m/s


功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000


41


4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500


41


11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200


41


22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900


41


45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850


41


90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100


41


160

DN200/DN150

 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%



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