实验室胶体磨，小体积小型胶体磨  招商

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CM2000/4高剪切实验室研磨机的技术参数：功率2.2KW，转速0-14000rpm，线速度0-44m/s，电压380V，机器产量为0-700升/小时（水），重量45KG，尺寸(长宽高450250X350)mm，使用双机械密封，可24小时不停机连续生产，并通冷媒对密封部分进行冷却。机械密封和机械设计符合3A健康标准，是实验和中试生产的很好的选择。

从设备角度分析，影响研磨效果的因素：

1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

–  磨头的线速率

–  在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

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CM2000/4实验室研磨机的技术优势主要体现在以下几个方面：

1.转速相较其它厂家2900转左右高出三倍

CM2000/4为立式分体式结构，通过皮带传动，并实现加速，加速比为3：1即正常50HZ频率下转速为7890RPM，外加变频可达13789RPM。CM2000/4分散头直径为55mm。

由此可得线速度（V=3.14*D（转子直径）*n/60）

V1= 3.14*0.055*7890/60 =23M/S

V2=3.14*0.055*13789/60=40M/S

2.磨头结构更精密并有独特设计，使之分散作用力更大，效果更好。

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-转子间距(m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 分散头的线速率

– 转子-定子间距

结合1，2中的数据可得：

F1=23/0.7*1000=32857S-1

F2=40/0.7*1000=57142S-1

普通转速为3000RPM的机型大约在14293-21544S-1

3.德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命

满足以下条件使得机械密封的使用寿命更长：

- 可允许的压力比率

- 充份的冷却和湿度

- 材料的合适搭配

该密封件配有压力平衡罐，保证机封上下端面受力平衡，同时可通过自身结构的泵环效应和热虹吸效应实现冷却水的自动循环。该循环系统为独立系统，与外界无接触，平衡罐内冷却液可选纯化水或合适的溶剂。通过换热管实现热交换。

4.CM2000/4管线式高剪切研磨机与大型工业管线式量产机型配置相同。各种工作头的种类及相应线速度相同，实验过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到更低。

国产一般厂家生产的研磨机的转速为3000rpm，对物料的细化能力在20-50μm；IKN的高剪切研磨机转速高达14000rpm，对物料的细化能力在5-10μm。

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