搅拌机类型 | 多功能搅拌机 |
物料类型 | 固-液 |
适用物料 | 化学品 |
动力类型 | 电动 |
布局形式 | 立式 |
搅拌方式 | 强制式搅拌 |
每次处理量范围 | 出料50-250L |
应用领域 | 化工 |
作业方式 | 循环作业式 |
搅拌鼓形状 | 圆盘型 |
装置方式 | 移动式 |
电机功率 | 4 |
生产能力 | 300 |
转速范围 | 0-14000 |
高分子材料剪切研磨分散机,高分子材料研磨均质机,高分子材料剪切分散机就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体、气体)进入到另一互不相溶的连续相(通常是液体)的过程。而在通常情况下各个相是互不相溶的。当外部能力输入时,两种物料重组成为均一相。
高分子材料具有一定的韧性,用传统方式分散、均质需要几道工序,费时费力。而且医药生产对卫生、设备的材质要求非常严格。所以寻找一款适合生产医药高分子材料的分散均质设备,对医药企业来说非常重要。江苏某药业集团在经过几番市场寻找之后,该企业的研发主管与生产主管和IKN工程师交流下来,认定了IKN的研磨分散机。
IKN高分子材料研磨均质机,高分子材料研磨分散机在处理高分子材料时选用CM+8SF的工作头,设备通冷却水,高分子材料一次处理下来,就可以达到200目。经过筛滤之后,完全满足了该药业集团的要求。
高分子材料研磨均质机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在分散头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过分散机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。
IKN研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计,相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差,当物料通过胶体磨之后,磨细后物料会出现抱团的现象,再经过分散机分散,效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话,物料磨细后,瞬间又通过分散工作组,进行分散,在物料还未抱团之前,就进行了分散,一个瞬间作用,效果会好很多。
高分子材料研磨均质机,高分子材料研磨分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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