| 处理能力 | 300 |
| 配用功率 | 4 |
| 粉碎程度 | 微粉碎 |
| 原理 | 高速万能粉碎机 |
| 适用物料 | 通用 |
| 应用领域 | 化工 |
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粉碎是借助机械力将大块固体物质碎成适当细度的操作过程。
从设备角度分析，影响研磨效果的因素：
1 磨头的形式（卧式和立式）
2 磨头的剪切速率
3 磨头的齿形结构（见磨头结构）
4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
– 磨头的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
IKN高速纳米胶体磨是一种对液体状物料或加有液体的物料的循环粉碎研磨装置及对该物料进行循环粉碎研磨的方法。
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混合操作以含量的均匀一致为目的。在固体混合中，粒子是分散单元，不可能得到分子水平的完全混合。因此应尽量减小各成分的粒度，以满足固体混合物的相对均匀。并根据组分的特性、粉末的用量和实际的设备条件，选择适宜的方法。少量药物与辅料的混合可采用搅拌法或研磨法。影响混合效率的因素很多，物料中各组分的粒度大小、外形、密度、含水量、黏附性和团聚性都会影响混合过程。
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在实际应用中，胶体磨不仅局限于“胶体”类材料的加工，而且可用于各种流体、半流体、乳膏、甚至具有一定湿度或油性的固体软材料的研磨、分散、乳化和均质。胶体磨广泛应用于现代工业生产中。精细材料bi备设备。胶体磨用于破碎、乳化、均质和混合流体或半流体材料，以获得满意的精细加工产品。胶体磨是一种离心乳化设备。它的通用性很强。它广泛应用于食品、医药、生物、化工等领域。该设备可处理高粘度和大颗粒物料，因此在高压均质机的前处理过程中有许多场合使用。当固体材料较多时，通常采用胶体磨进行精炼。胶体磨主要由磨头部分、底座传动部分和专用电机组成。机器zui重要的部分是机芯的运动部件和静盘和机械密封的组合部件。因此，根据被加工材料的性质，选择必须不同的胶体磨。
IKN胶体磨的技术参数：
高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
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