处理能力 | 300 |
配用功率 | 4 |
粉碎程度 | 超细粉碎 |
原理 | 高速万能粉碎机 |
适用物料 | 通用 |
应用领域 | 化工 |
混悬液胶体磨,膏体高剪切胶体磨,金霉素红霉素软膏胶体磨,铝镁加混悬液胶体磨,头孢高速胶体磨,德国立式胶体磨
胶体磨或者改进型胶体磨 何称之为湿法胶体磨?这个问题得从湿法粉碎的原理说起,湿法粉碎是在粉碎固体物料的过程中加入水、油、奶等溶液为介质,从而研磨至合适细度而成的过程。我们举个简单的例子说,比如药品悬剂的制备。药品悬剂制备中将原料固体药物、助剂放入研磨机中再加入水研磨粉碎,制成悬剂。药品悬剂制成的过程就称之为湿法粉碎。湿法粉碎zui鲜明的特点就是无粉尘。
为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到14000转。这很容易做到,但zhong要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。
用转子-定子装置湿磨物质具有诸多好处:
· 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中,因而从开始就避免了灰尘的形成。
· 与干磨系统不同,被研磨的物质保持在系统内,从而大幅减少了损失。因此,湿磨非常适合有机化学品,尤其是优质物质,或者有毒物质的研磨。
· 相对干磨过程而言,湿磨的产品进料和计量较容易。
混悬液胶体磨,膏体高剪切胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CMD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;suo有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用316L不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
胶体磨结构特点:
1.主要零部件采用优质不锈钢材质,耐腐蚀、无毒。
2.主要工作部件定、转子,采用特殊的机加工和热处理工艺,加工经度高,使用寿命长。
3.定、转子可选用不同的材料,配有研磨和剪切等不同的结构和齿型,用户可根据需要选择,适用性广。
4.加工间隙通过调整环进行微量调整,易于控制,确bao产品的加工质量。
5.主体座、调整环配有限位和锁紧装置,保证加工间隙的稳定。
6.配有冷却系统,保证加工物料的性质。
7.产品设计有普通进出料、管式进出料及循环加工等结构,zui大限度地满足用户的要求。
8.用户可根据需要选择普通电机或防爆电机。
9.整机设计有多种外包装形式,可供用户选择。
10.主轴与电机分体设计,用户可根据需要选择适当的转速。
11.采用标准电机/防爆电机(均为ABB/西门子电机)。
IKN胶体磨的技术参数:
高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
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