搅拌机类型 | 多功能搅拌机 |
物料类型 | 固-液 |
适用物料 | 化学品 |
动力类型 | 电动 |
布局形式 | 立式 |
搅拌方式 | 强制式搅拌 |
每次处理量范围 | 出料50-250L |
应用领域 | 化工 |
作业方式 | 循环作业式 |
搅拌鼓形状 | 圆盘型 |
装置方式 | 移动式 |
电机功率 | 4 |
生产能力 | 300 |
转速范围 | 0-14000 |
高强度聚乙烯高剪切分散机,聚乙烯溶液聚合法超高速分散机,聚乙烯分散机,高强高魔聚乙烯分散机,高聚合物分子量分散机,高聚物纳米分散机是指将不溶固体颗粒分散到液体中在液体介质中的分散体系。在分散过程中,往往需要减小固体颗粒,这就是湿磨或高剪切分散。用IKN高剪切分散机输入大量能量,可实现我们的目的。
聚乙烯聚乙烯按聚合压力可以分为高压法、中压法、低压法;按介质来分可以分为淤浆法、溶液法、气相法。
分淤浆法、溶液法和气相法三种,除溶液法外,聚合压力都在2MPa以下。一般步骤有催化剂的配制、乙烯聚合、聚合物的分离和造粒等。
溶液法 聚合在溶剂中进行,但乙烯和聚乙烯均溶于溶剂中,反应体系为均相溶液。反应温度(≥140℃)、压力(4~5MPa)较高。特点是聚合时间短,生产强度大,可兼产高、中、低三种密度的聚乙烯,能较好地控制产品的性质;但溶液法所得聚合物分子量较低,分子量分布窄,固体物含量较低。
浆料的团聚是指原生的微细颗粒在制备、分散及存放过程中,相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。
颗粒在液相介质中表现为分散和团聚两种基本的行为。颗粒在液体介质中的团聚是吸附与排斥共同作用的结果,其根源是颗粒间的相互作用力。在悬浊液体系中,粉体颗粒的团聚是吸附和排斥共同作用的结果。如果吸附作用大于排斥作用,粉体颗粒团聚;如果吸附作用小于排斥作用,粉体颗粒则分散。在液体介质中,粉体颗粒受力情况较复杂,不仅有像范德华力、静电力、表面张力、毛细管力等产生团聚的吸引力,而且在粒子的表面,还会产生双电层静电作用、溶剂化膜作用、聚合物吸附层的空间保护作用等使纳米颗粒趋向于分散的斥力作用。
颗粒在介质中的稳定分散一般包括以下过程:润湿、机械分散及分散稳定。润湿通常指颗粒与颗粒之间的界面被颗粒与溶剂、分散剂等界面所取代的过程。机械分散是利用剪切力将大量颗粒细化、使团聚体解聚、被润湿、包裹吸附的过程。分散稳定是指将原生粒子或较小的团聚体在静电斥力、空间位阻斥力作用下来屏蔽范德华引力,使颗粒不再聚集的过程。团聚体分散解聚的直接原因是受到剪切力和压力的作用,剪切力在分散过程中起到了决定性的作用。
高强度聚乙烯高剪切分散机,聚乙烯溶液聚合法超高速分散机是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在分散头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种分散头供客户选择)。
设备特点:
用了二级处理结构,第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块,第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,(2P剪切力zui弱,为粗齿,8SF剪切力zui强,为超细齿)且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进,可提供可靠的可扩展性,可重复性和性能。我们zui新的设计融合了许多创新,提供更多应用多功能性,更易于清洁和维护。
球磨机/砂磨机:锆珠易损,引入杂质,更换维修成本高;
国内胶体磨/研磨机/分散机:转速普遍2930rpm,不超过3000rpm,作用力弱,粉碎研磨细度不够,浆料稳定性差;
德国IKN研磨分散机(改进型胶体磨/改进型分散机):转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm,剪切力,研磨力,分散力更强,粒径更小,分布范围更窄,浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的,一致的和可重复的粒度分布。
除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,IKN改进型胶体磨是在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。
IKN高强度聚乙烯高剪切分散机的技术参数:
高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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